氧浓度对磁控溅射Ti/WO3 薄膜光学性能的影响

doi:10.11721/cqnuj20090120

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氧浓度对磁控溅射Ti/WO3 薄膜光学性能的影响
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                        10.11721/cqnuj20090120
                    
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作者单位:重庆师范大学物理与信息技术学院
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Influence of O2 Concentration on Structure and Optical Properties of WO3/Ti Thin Films Prepared by DC Sputtering

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孙彩芹,杨晓红,闫勇彦,张召涛.氧浓度对磁控溅射Ti/WO3 薄膜光学性能的影响[J].重庆师范大学学报自然科学版,2009,(1):0-

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